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PFEIFFER EVR116

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PFEIFFER EVR116是一种气体控制阀,本质上是由步进电机驱动的针型阀。它能将外部控制信号转化为特定的阀针位置,通过改变阀的开度来精确控制气体流量。该阀门有配套的控制器,如普发的RVC 300。

PFEIFFER EVR116(6).jpg

产品参数:


控制电压:0-10V DC。


最大可控气体流量:1.25×10³hPa·L/s。


公称直径:DN 16 ISO-KF。


供电:最大功耗12W。


烘烤温度:执行器60°C,外壳80°C。


产品规格:尺寸通常为200mm×150mm×75mm,也有资料显示为紧凑的100mm×150mm×50mm,重量约1.5kg。


产品系列:属于普发公司气体控制阀门系列产品。


产品特征:


流量控制精准:可以实现高精度的气体流量控制,控制精度可达读数的±0.1%。


控制范围广:工作压力范围宽,从10⁻¹⁰到10³mbar,能适应多种不同的真空度环境。


集成度高:带有集成的电机控制电子设备,便于安装和使用,可有效减少外部控制设备的复杂性。


通信便捷:具备RS-485、USB等通信接口,方便与其他设备进行数据交互和集成到自动化系统中。


环境适应性强:工作温度范围为-20°C到60°C,能在较为恶劣的工业环境中稳定工作。


作用:主要用于精确控制气体流量,在真空系统或需要精确气体流量控制的系统中,根据外部输入的控制信号,准确地调节阀门开度,从而实现对气体流量的精准调节,以满足系统的工艺要求。


用途:用于需要对气体流量进行精确控制和调节的场合,确保气体流量按照设定的要求进行变化,以保证系统的稳定性和可靠性。

PFEIFFER EVR116(2).jpg

应用领域:


半导体制造:在半导体芯片制造过程中,用于控制各种工艺气体的流量,如光刻、蚀刻、镀膜等工艺,确保工艺的一致性和产品质量。


真空冶金:在真空熔炼、真空镀膜等冶金工艺中,精确控制保护气体或反应气体的流量,有助于提高金属材料的质量和性能。


科研领域:如在物理、化学等科研实验中,需要精确控制气体流量来进行各种实验,为实验提供准确的气体环境。


制药行业:在药品生产过程中,对各种参与反应的气体或用于环境控制的气体进行精确流量控制,以满足药品生产的严格要求。


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