RPS AX7695 MKS

RPS AX7695 是MKS Instruments公司生产的一款高性能远程等离子源电源，属于其先进的射频功率产品系列。该产品专为半导体制造、平板显示等高端工艺设备设计，用于产生和控制稳定的等离子体，是刻蚀、化学气相沉积（CVD）、光刻胶灰化等工艺的核心能量源。

应用场景：

在300mm晶圆厂的高级栅极刻蚀工艺中，需要极其稳定的等离子体密度和精确的离子能量控制，任何功率波动都会导致刻蚀速率变化和关键尺寸偏差。该刻蚀机采用MKS RPS AX7695 远程等离子源电源作为核心激发源。RPS AX7695 通过其先进的闭环控制技术和实时阻抗匹配网络，在工艺过程中维持了惊人的功率稳定性（±0.5%），确保了晶圆内和晶圆间的刻蚀均匀性优于98%，直接提升了产品良率和产能。

核心参数速览：

技术原理与创新价值：

· •创新点1：高级阻抗自动匹配技术。 RPS AX7695 的核心创新在于其快速响应的自动匹配网络。等离子体的阻抗会随着工艺条件（如气压、气体成分、功率）动态变化。该电源能实时监测正向和反射功率，并通过电机驱动真空可变电容器在毫秒级内调整匹配网络，确保射频能量最大限度地耦合到等离子体中，而不是被反射回来损坏发生器，从而保证了工艺的稳定性和电源自身的安全。

· •创新点2：极致的功率稳定性与控制精度。 采用先进的直接数字合成（DDS）技术和高质量的功率放大器，RPS AX7695 能够提供极其稳定的射频功率输出。其精密的反馈控制回路可以快速补偿负载变化，确保设定功率与实际输送至等离子体的功率高度一致，这是实现高重复性工艺的关键。

· •创新点3：全面的诊断与通信集成能力。 该电源提供丰富的内部状态数据（如功率、电压、电流、反射系数、匹配器位置等）并通过标准工业通信协议（如SECS/GEM）上传至主机EFEM。这使得设备工程师能够实时监控工艺健康状况，进行故障预测和预防性维护，最大限度地减少非计划停机。

应用案例与行业价值：

在某先进3D NAND闪存芯片的生产线上，用于STI（浅沟槽隔离）刻蚀的工艺腔体对等离子体的均匀性和稳定性要求极为苛刻。产线全部采用了MKS RPS AX7695 作为等离子源。其卓越的性能将腔体内的等离子体不均匀性控制在<2%，使得晶圆上的关键尺寸偏差达到亚纳米级别。工艺工程师指出：“RPS AX7695 的长期稳定性和强大的SECS/GEM通信功能，是我们实现7x24小时连续生产和大数据工艺监控的基石，其MTBF（平均无故障时间）远超我们的预期。”

相关产品组合方案：

· •压力控制器：如MKS Type 640 系列，与 RPS AX7695 协同控制工艺腔体压力。

· •质量流量控制器（MFC）：如MKS MultiGas 系列，为等离子体过程提供精确的气体流量控制。

· •真空计：如MKS Baratron 系列，监测腔体基础压力和工艺压力。

· •尾气处理系统：如MKS Destroyer 系列，处理工艺产生的有害尾气。

· •MKS Toolweb 软件：用于设备监控、数据收集和故障诊断的统一平台。

安装维护与全周期支持：

RPS AX7695 的安装需要专业人员进行，需确保供电、冷却（风道或水路）和射频传输线（同轴电缆）的连接正确可靠。日常维护主要包括定期清洁风扇滤网、检查电缆连接器以及通过软件监控关键参数的历史趋势。