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223BD-00001AAB

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详情介绍

223BD-00001AAB 是MKS Instruments公司生产的一款高性能压力传感器/变送器。该产品采用先进的传感技术,为工业过程控制提供精确、可靠的压力测量解决方案。

应用场景:

在半导体芯片制造厂的CVD(化学气相沉积)设备中,MKS 223BD-00001AAB 压力传感器实时监测反应腔室内的真空压力。其高精度测量确保了工艺气体流量和压力的精确控制,直接影响薄膜沉积的质量和均匀性。传感器通过4-20mA或现场总线将压力信号传输至设备控制系统,实现工艺参数的闭环控制。

核心参数速览:

主要参数

数值/说明

产品型号

223BD-00001AAB

制造商

MKS Instruments

产品类别

压力传感器/变送器

测量范围

0-1000 Torr(可根据需求定制)

精度

±0.25% FS(典型值)

输出信号

4-20mA模拟量/现场总线(如DeviceNet, Profibus)

供电电源

12-30 VDC

过程连接

1/4" VCR或Swagelok接口

膜片材料

316L不锈钢/Hastelloy C(耐腐蚀)

长期稳定性

<0.2% FS/年

工作温度

-20°C 至 +70°C(过程介质)

防护等级

IP65(外壳)

认证标准

CE, ATEX, IECEx

技术原理与创新价值:

创新点1:先进的压阻式传感技术。 传感器采用高性能压阻芯体,通过微机电系统(MEMS)技术在硅晶片上制作惠斯通电桥,实现压力的高精度、低漂移测量。创新点2:智能温度补偿算法。 内置温度传感器和数字补偿电路,在全温度范围内对零点和满量程进行自动补偿,确保测量精度不受环境温度变化影响。创新点3:全面的诊断功能。 支持传感器断线、超量程、硬件故障等自诊断,并通过状态位输出,方便系统集成和维护。

应用案例与行业价值:

案例:光伏行业PECVD设备真空改造某光伏企业为提高薄膜太阳能电池效率,对PECVD设备真空系统进行升级,选用MKS 223BD-00001AAB 压力传感器。应用流程: 传感器安装在反应腔室真空管道,实时监测沉积过程中的压力变化,配合MKS质量流量控制器实现工艺气体流量的精确控制。带来的改进: 改造后,薄膜均匀性由±8%提升至±3%,电池转换效率提高约0.5%。客户反馈:"223BD-00001AAB 的稳定性和重复性,为我们提升产品良率提供了关键保障。"

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相关产品组合方案:

完整的压力测控解决方案包括:

· MKS质量流量控制器 MKS 1179A系列

· MKS真空计 用于不同真空范围的测量

· MKS真空阀 如蝶阀、挡板阀等

· MKS真空泵 干泵、分子泵等

· MKS集成的真空子系统 UDP系列

安装维护与全周期支持:

安装: 传感器需垂直安装于测量点上方,避免颗粒物积聚。接线需屏蔽,接地良好。维护: 定期进行零点校准(建议每6个月),检查密封性。清洁时使用异丙醇,避免损坏膜片。

 


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