



AMAT 0090-00224 是美国应用材料公司(Applied Materials, Inc.)为其半导体制造设备(如刻蚀机、化学气相沉积CVD、物理气相沉积PVD等)设计的一款专用直流电源模块或射频(RF)电源系统的关键组件。该模块是设备电源子系统(PSU)的核心部分,负责将输入交流电转换为高稳定、低噪声、精准可控的直流或射频功率输出,为晶圆加工工艺腔室内的等离子体生成、电极偏压等关键物理/化学反应提供精确可控的能量输入,是决定工艺重复性和设备产率的关键因素之一。
在华中地区一座先进的12英寸晶圆厂内,一台用于关键层刻蚀的Applied Materials Centura® 刻蚀机突然报警,工艺腔室无法正常点燃和维持等离子体,导致整条生产线中断。工程师紧急排查,发现故障根源在于为下电极提供直流偏压的 AMAT 0090-00224 电源模块输出异常波动。该模块的输出稳定性直接影响到等离子体密度和离子轰击能量,进而决定刻蚀的速率和均匀性。更换上经过严格测试的备用 0090-00224 模块后,电源输出立即恢复稳定,等离子体顺利点燃,刻蚀速率和均匀性测试迅速达标。设备工程师表示:“在半导体制造中,电源的稳定性就是工艺的‘生命线’。 0090-00224 这样的模块,其输出纹波和噪声指标必须极低。它的快速恢复,为我们避免了数百万潜在的生产损失,保证了芯片制造的‘心跳’不中断。”
主要参数 | 数值/说明 |
产品型号 | 0090-00224 |
制造商 | 应用材料公司(Applied Materials) |
产品类别 | 半导体设备专用电源模块/组件 |
输入电源 | 三相交流输入,如 200-480 VAC, 50/60 Hz |
输出规格 | 高稳定直流输出(如 0-1000 VDC, 0-50A)或为RF电源的中间直流链路部分(具体取决于应用) |
输出精度 | 高精度,电压/电流调节精度通常优于 ±0.5% FS, 低纹波与噪声 |
控制接口 | 接受设备主控系统的模拟量(0-10V/4-20mA)或数字(RS-232/485, 以太网)指令,实现远程编程与控制 |
保护功能 | 过压、过流、过温、短路、电弧检测等多重保护,故障时安全关断 |
冷却方式 | 强制风冷或液冷,确保高功率密度下的稳定运行 |
工作温度 | 0°C 至 +50°C(控制柜环境),严格温控要求 |
通信与诊断 | 支持状态反馈、故障代码报告,便于设备集成与预测性维护 |
物理规格 | 模块化设计,便于在设备电源框架中插拔更换 |
符合标准 | 符合半导体设备相关的安全(UL, CE)与电磁兼容(EMC)标准 |
创新点1:针对等离子体工艺优化的高精度与快速响应设计。 半导体工艺对电源的稳定性和动态响应有极高要求。 0090-00224 模块采用先进的高频开关技术和多级闭环控制。其控制环路能够对负载(等离子体)的剧烈变化(如工艺步骤切换、等离子体点燃瞬间)做出毫秒级响应,快速调整输出以维持设定点。同时,其输出采用精密的滤波和屏蔽技术,将输出纹波和噪声抑制在极低水平(如<1% RMS),这对于防止工艺腔室内产生不必要的寄生放电、保证刻蚀或沉积的均匀性至关重要。 创新点2:集成化电弧管理与工艺保护机制。 在等离子体工艺中,腔体内发生电弧(Arc)是常见且具有破坏性的现象。 0090-00224 模块集成了高速电弧检测电路,能够在微秒级内识别到异常的电流或电压尖峰。一旦检测到电弧,模块会立即执行预设的电弧抑制策略——通常是迅速关断或降低输出,并在毫秒级内尝试恢复。这种智能的电源管理能力能最大限度地减少电弧对晶圆和腔室内件的损伤,提高良品率和设备正常运行时间(MTBF)。 创新点3:模块化设计与设备无缝集成。 作为Applied Materials原厂设计的备件, 0090-00224 与设备主机在机械、电气和通信层面实现了无缝集成。其模块化设计允许在现场进行快速更换,最大限度地减少设备停机时间。模块通过标准化的数字接口与设备的上位控制器通信,不仅接收指令,还能上传详细的运行状态、内部温度、累计运行时间、故障日志等数据,为设备的预测性维护和远程诊断提供了关键信息基础。
案例一:高级逻辑芯片金属互连层的刻蚀工艺。 在7纳米及以下技术节点的芯片制造中,金属互连线(如铜互连)的刻蚀要求极高的各向异性和侧壁光滑度。该工艺使用Applied Materials的电感耦合等离子体(ICP)刻蚀机,其中 0090-00224 电源模块可能为产生高密度等离子体的射频天线或为晶圆台提供直流偏压。其输出的极致稳定性确保了等离子体密度和离子能量的高度均匀,从而实现精确到原子层的刻蚀控制,避免了关键尺寸(CD)的变异和侧壁粗糙,直接决定了芯片的速度和功耗性能。任何电源输出的微小漂移都可能导致整批晶圆报废。 案例二:存储器芯片(3D NAND)的阶梯刻蚀与薄膜沉积。 在制造高深宽比的3D NAND存储单元时,需要交替进行数十甚至上百层的薄膜沉积和刻蚀,形成“楼梯”状结构。用于这些步骤的CVD和刻蚀设备,其电源(如 0090-00224 所属的系列)必须在不同的工艺步骤间快速、平滑地切换输出功率,同时保持极低的噪声。电源的性能一致性是保证每一层薄膜厚度和刻蚀深度均匀的关键,直接影响存储单元的电荷保持能力和最终芯片的存储密度与可靠性。


1. AMAT 射频发生器(RF Generator): 如 0090-xxxxx 系列其他型号,产生13.56MHz或其他频率的射频功率,与直流偏压电源协同工作激发并维持等离子体。
2. 阻抗匹配器(Match Network): 如 0190-xxxxx, 连接在RF发生器与工艺腔室之间,实时调整阻抗以实现最大功率传输和反射功率最小化。
3. 工艺腔室电极与气体分配系统: 电源模块的能量最终施加于腔室内的电极,与精确控制的气体流量共同决定工艺结果。
4. 设备主控制器(如AMAT E3® 或 Centura® 平台控制器): 向 0090-00224 等电源模块发送工艺配方指令,并接收其状态反馈。
5. 设备通信与数据采集板卡: 负责电源模块与上层控制系统之间的数据交换。
6. 冷却系统组件(风扇、水冷板): 为高功率的电源模块提供必要的散热,保证其长期稳定运行。
7. 设备平台专用电源分配单元(PDU): 为整个设备,包括 0090-00224 等模块,提供经过滤波和保护的输入电力。
0090-00224 模块的安装、更换必须由经过应用材料公司认证的设备工程师(CE)或资深客户工程师(CCE)在设备完全断电并完成放电后执行。操作需在无静电环境下进行,严格遵守ESD规程。模块插入设备机架时需确保对准导轨和背板连接器,并按照规定的扭矩锁紧固定螺钉。更换后,必须通过设备专用软件加载正确的固件和配置文件,并进行全面的电源性能校准和工艺匹配测试,确保其输出参数完全符合原厂规格。 日常维护主要是通过设备自诊断系统(如Applied Materials的E3® 诊断套件)监控电源模块的运行状态、温度、累计运行时间和历史报警记录。定期进行预防性维护(PM),包括清洁散热风道、检查连接器紧固情况等。
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