PFEIFFER EVR116

PFEIFFER EVR116 是德国普发真空（Pfeiffer Vacuum）公司生产的一款高性能电动真空压力调节阀。它属于真空过程控制系统中的关键执行组件。该阀采用先进的压电驱动技术，能够根据控制器的设定值，快速、精确地调节进入真空腔体的气体流量，从而在动态变化的工艺条件下（如注入反应气体时）维持腔体内压力的高度稳定。是半导体制造、光学镀膜、科研分析等要求苛刻的真空应用中的核心控制元件。

应用场景：

在半导体晶圆制造的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）工艺中，需要在真空反应腔内通入精确流量的硅烷和氮气，并维持一个恒定的低压力（例如几帕斯卡），以确保沉积的氮化硅薄膜具有均匀的厚度和特性。PFEIFFER EVR116 调节阀在此扮演了“压力守门员”的关键角色。它安装在工艺气体管路与真空腔体之间，上游连接着高真空泵组。当质量流量控制器按配方注入气体时，腔压会瞬间升高。EVR116 的压电驱动器在毫秒级内接收到来自真空计的压力反馈信号，迅速微调阀门的开度，增大抽气通道，将多余的气体排出，使压力快速回归并稳定在设定值。这种高速、高精度的控制，是保证薄膜质量一致性和良率的决定性因素之一。

核心参数速览：

技术原理与创新价值：

创新点1：压电陶瓷驱动技术。 EVR116 的核心优势在于其采用压电驱动器。压电陶瓷在电场作用下会产生微小的形变，通过杠杆机构放大后驱动阀片运动。这种驱动方式具有无摩擦、响应极快、分辨率极高、功耗低且不产生磁场的优点，非常适合需要微小、精确、快速流量调节的真空应用，避免了传统电磁阀的滞后、发热和磁干扰问题。创新点2：高真空兼容性与密封设计。 该阀采用全金属阀体和高真空法兰（如CF法兰），确保了其在超高真空环境下的气密性和极低放气率。其内部结构设计最大限度地减少了死角，有利于快速抽真空和保持真空卫生，防止污染物滞留。创新点3：与普发真空生态系统的无缝集成。 EVR116 设计用于与普发真空的RVC系列压力控制器和真空计（如PKR、PBR系列）协同工作，构成一个完整、优化且易于调试的压力控制回路。这种系统级集成简化了用户的工程实施，保证了最佳的控制性能。

应用案例与行业价值：

案例：高端光学镀膜机薄膜厚度控制某光学器件公司需要在其电子束蒸发镀膜机上沉积用于激光器的多层高反膜，每一层薄膜的厚度精度要求达到纳米级。

· •应用流程： 在镀膜过程中，蒸发源速率的变化会导致腔体压力波动。将EVR116 与RVC300控制器和一台电容式真空计（如PKR 361）组成闭环控制回路。控制器根据真空计测得的实际压力与设定值的偏差，实时驱动EVR116 调节主阀旁路（或专用进气管道）的开度，稳定沉积过程中的压力。

· •带来的改进： 压力稳定性显著提高，确保了蒸发速率的稳定，从而使得每一层薄膜的光学厚度严格符合设计指标，产品良率提升了15%。其快速响应也缩短了工艺稳定时间，提高了设备产能。

· •用户评价： 工艺工程师表示：“PFEIFFER EVR116 阀的精度和速度是我们实现纳米级膜厚控制的关键。它的稳定性极佳，几乎免维护，为我们高端光学产品的制造提供了可靠的保障。”

相关产品组合方案：

PFEIFFER EVR116 通常与以下普发真空产品构成完整的压力控制解决方案：

· •压力控制器：如RVC300（经济型）或RVC700（高性能型），是控制回路的大脑。

· •全量程真空计：如PKR 361（皮拉尼/冷阴极复合真空计）或PBR 260（皮拉尼真空计），提供压力反馈信号。

· •高真空泵组：如HIPACE系列涡轮分子泵，提供抽气能力。

· •真空腔体与管路：构成整个真空系统。

· •质量流量控制器：用于精确控制工艺气体的注入流量。

安装维护与全周期支持：

安装指导：安装时需确保法兰对接面清洁，使用正确的扭矩交叉拧紧法兰螺栓以达到规定的真空密封要求。电气连接需参照说明书，正确连接控制信号和反馈信号线，并做好屏蔽。维护要点：该阀基本免维护。主要工作是保持真空系统的清洁，防止颗粒物污染阀座密封面。若发现控制性能下降或泄漏，应检查密封圈是否老化或损坏。